Macro Defect Inspection 반도체 결함 검출 시스템 Macro Defect Inspection 반도체 결함 검출 시스템

Mask 검사

TZTEK의 마스크 검출은 마스크의 통계적 유형의 결함을 검출하는 Die-to-Die 방법을 사용합니다. 이 시스템은 전력
반도체, LED및 MEMS 분야에서 웨이퍼 제조에 사용되는 Mask를 모니터링 하는데 사용됩니다.
TZTEK의 시스템은 Mask 상태, 세정 또는 교체의 필요 여부를 결정 하는데 사용됩니다.

제품
스펙터
전형적인 응용
  • 마스크 결함 감지
주요특징
  • 완전 밀폐형 시스템
  • 최대 2개의 포드 또는 박스 워크스테이션 지원
  • Die-to-Die 기반 자동 감지
  • 최대 0.5μm의 분해능
  • 지원되는 최대 마스크 크기는 14인치
스펙터 엠
전형적인 응용
  • 마스크 결함 감지
주요특징
  • 개방형 시스템
  • 수동 마스크 로딩 및 언로딩
  • 전자동 마스크 검사
  • Die-to-Die 기반 자동 감지
  • 최대 0.5μm의 분해능
  • 지원되는 최대 마스크 크기는 14인치
스펙터 A
전형적인 응용
  • 마스크 결함 감지
주요특징
  • 개방형 시스템
  • 로봇 마스크 취급
  • 전자동 마스크 검사
  • Die-to-Die 기반 자동 감지
  • 최대 0.5μm의 분해능
  • 지원되는 최대 마스크 크기는 14인치
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